2020年9月15日至19日，第22届中国国际工业博览会在国家会展中心（上海）举行，该展会是我国工业领域面向世界的一个重要窗口和经贸交流合作平台。SMEE作为国内半导体装备企业代表之一参会（展位号5.2H-E175），全方位展示了前道光刻机、先进封装光刻机及FPD光刻机等核心设备及工艺技术。

近年来，随着我国半导体行业的快速发展，对上游设备产品及工艺技术提出了更高的要求。此次参展的6代大MASK曝光机主要应用于AMOLED和LCD显示屏的制造，可满足6代产线的各种高精度曝光需求，吸引众多客商关注。